PROMOSOLV NEO A1 : 3M Novec™ 7100 に代わる環境配慮型ソリューション。優れた材料相性と残渣のない乾燥を実現します。光学レンズ、感応性基板、および精密部品のために特別に設計されており、Greenway(グリーンウェイ)基準に準拠した、超低カーボンフットプリントの保護ソリューションを提供します。
世界的に厳格化する環境規制と 3M™ Novec™ シリーズの生産終了を控え、電子・半導体産業はプロセス転換の重要な局面を迎えています。PROMOSOLV™ NEO A1 は、Inventec が開発した次世代型「Greenway」環境配慮型溶剤です。PFAS(有機フッ素化合物)を一切含まず、地球温暖化係数(GWP < 1)も極めて低いため、高度な洗浄パフォーマンスと企業の持続可能性(ESG)の両立を実現する最良のソリューションです。
極低温から高温までの幅広い温度域に対応し、シングルフェーズ(単相)システムにおける重要電子部品の長期安定性と効率的な放熱を実現します!
- 誘電性熱媒体(絶縁性熱輸送流体)
- 沸点: 110°C/230°F
- 引火点なし & 超低GWP(地球温暖化係数)
主な製品の特長
PROMOSOLV™ NEO A1 は、蒸気洗浄(ベーパー脱脂)専用に設計された不燃性溶剤であり、最も要求の厳しい精密洗浄の課題を解決します。
- 強力な溶解力: 優れた KB 値(カウリブタノール値)により、あらゆる種類のフラックス残渣、油脂、ワックス、指紋を徹底的に除去します。
- 優れた浸透性: 低表面張力により、ファインピッチ部品の隙間や複雑な形状の内部まで浸透し、死角のない完璧な洗浄を実現します。
- 極めて速い乾燥速度: 洗浄槽から取り出した瞬間に乾燥が完了するため、追加の乾燥工程(ベーキング)が不要となり、生産サイクルを大幅に短縮できます。
安全性と環境への取り組み
世界的なサプライチェーンにおいて PFAS 規制や地球温暖化係数(GWP)への関心が高まる中、NEO A1 は変革を目指す台湾企業にとって最適(トップクラス)な選択肢です。
- 極めて低い地球温暖化係数(GWP): 従来の溶剤(HFC や旧世代のフッ素系溶剤)よりも大幅に低く、企業のカーボンニュートラル目標達成を強力に支援します。
- 不燃性による高い安全性: 引火点がなく、輸送上の危険物にも該当しないため、工場内での保管や作業におけるリスクを大幅に低減できます。
- オゾン層破壊係数ゼロ(Zero ODP): モントリオール議定書に完全に準拠しており、従来の HCFC 系溶剤からの切り替えに最適です。
- 良好な作業環境の維持: 許容濃度(曝露限界値)が高く、現場で働く従業員の健康を守ります。
卓越したパフォーマンス
台湾をリードする半導体およびハイエンド医療機器製造業界向けに設計された NEO A1 は、比類なき洗浄精度(クリーンネス)を提供します。
- 低表面張力: 従来の純水洗浄と比較して流動性に優れ、フリップチップや BGA 部品の下面にある微細な不純物も容易に除去します。
- 安定した共沸(アゼオトロピック)特性: 気相洗浄装置において極めて安定したパフォーマンスを発揮。最初の一枚から最後の一枚まで、一貫した洗浄品質を保証します。
- 超音波不要の洗浄プロセス: 多くのアプリケーションにおいて、蒸気洗浄とスプレーのみで極めて高い清浄度を達成。精密部品への物理的ダメージを回避できます。
コストの最適化
プロセス統合と設備メンテナンスの観点から、実質的な経済的利益(コストメリット)をもたらします。
- 低エネルギー消費運転: 沸点が低いため(配合により約40〜60°C)、加熱時間の短縮と消費電力の削減が可能です。
- 溶剤のリサイクルが可能: 気相洗浄システム内での凝縮とろ過により、溶剤を繰り返し再利用できるため、補充コストを大幅に抑制できます。
- 排水処理工程の撤廃: 水系洗浄プロセスと比較して、純水(DI Water)を必要とせず、排水処理に伴う負担やリスクも一切ありません。
主な用途
PROMOSOLV™ NEO A1 は、台湾の主要な成長産業において、その真価を実証しています。
- 半導体およびパッケージング: パッケージング後のフラックス残渣を除去し、安定した電気的特性を確保します。
- 航空宇宙・防衛: 高信頼性が求められるプリント基板(PCB)洗浄において、MIL規格(米国軍用規格)に準拠した品質を実現します。
- 精密機械および光学: 精密部品の脱脂処理および指紋除去に最適です。
- 電子機器のリワーク: 修理後の回路基板に対して、部分的または全体的な洗浄処理を効率的に行います。
プロセス例:
最適なプロセスは、運転条件、設備、必要洗浄時間、汚染物質の性質など、さまざまな要因によって異なります。当社の専門チームが、最適なソリューションをご提案いたします。
共溶剤(コソルベント)分離プロセス
TOPKLEAN MC 20A
Conc: 100%
Temp: 47/116
US: optional
Time: 5-10 min
Conc: 100%
Temp: 47/116
US: optional
Time: 5-10 min
CLEANING
PROMOSOLV NEO A1
Conc: 100%
Temp: 54/129
US: optional
Time: 2-5 min
Conc: 100%
Temp: 54/129
US: optional
Time: 2-5 min
RINSING
PROMOSOLV NEO A1
Conc: 100%
Temp: 44/111
US: optional
Time: 2-5 min
Conc: 100%
Temp: 44/111
US: optional
Time: 2-5 min
RINSING
DRYING ZONE
Conc: 100% NEO A1 vapor
Temp: 54/129
Time: 5-60 sec
Conc: 100% NEO A1 vapor
Temp: 54/129
Time: 5-60 sec
DRYING
シングル溶剤プロセス:フッ素系潤滑剤の除去
PROMOSOLV NEO A1
Conc: 100%
Temp: 54/129
US: optional
Time: 5-10 min
Conc: 100%
Temp: 54/129
US: optional
Time: 5-10 min
CLEANING
PROMOSOLV NEO A1
Conc: 100%
Temp: 44/111
US: optional
Time: 2-5 min
Conc: 100%
Temp: 44/111
US: optional
Time: 2-5 min
RINSING
DRYING ZONE
Conc: 100% NEO A1 vapor
Temp: 54/129
Time: 5-60 sec
Conc: 100% NEO A1 vapor
Temp: 54/129
Time: 5-60 sec
DRYING
