PROMOSOLV NEO A2 : 3M Novec™ 71IPA に代わる、SMT およびパッケージング工程専用に設計された高浸透・高効率な洗浄テクノロジー。アルコール強化処方の採用により、PFASフリーの安全性を維持しながら、ファインピッチ部品の下面に残留する化学物質を完全に除去します。
世界的な環境規制が厳格な監視期間に入り、特に 3M™ Novec™ 71IPA および 7100 の段階的な廃止が進む中、お客様のプロセスにはより堅牢で安全な継続ソリューションが求められています。Inventec の PROMOSOLV™ NEO A2 は、フラックスフリー(残渣ゼロ)と迅速な乾燥という、より高い基準を満たすために開発されました。
サステナビリティシリーズ「
サステナビリティシリーズ「
主な製品の特長
PROMOSOLV™ NEO A2 は、環境負荷の低減を維持しつつ、難洗浄性の汚染物質に対する除去能力を強化しており、半導体後工程(バックエンド)製造プロセスを強力にサポートします。
- 洗浄力の強化: 一般的な溶剤と比較して、高鉛はんだペースト(HT 301T など)や長時間放置されたフラックスの焼結残渣(しんけつざんさ)に対して、より速い溶解速度を発揮します。
- 優れた表面張力制御: 極めて低い表面張力(14.5 mN/m)により、フリップチップや高密度相互接続(HDI)構造の微細な隙間にも容易に浸透します。
- 引火点のない安全性: 不燃性液体であり、高温の蒸気洗浄装置(ベーパー脱脂機)での運用も極めて安全です。特別な防爆設備を必要としません。
安全性と環境への取り組み
台湾の半導体産業が極めて重視する「化学物質ライフサイクル」への対応として、NEO A2 は次世代の仕様を満たす物理的特性を備えています。
- 極めて低い地球温暖化係数(GWP): 従来の洗浄剤よりも大幅に低い数値(GWP < 1)を実現。OSAT(半導体後工程受託製造)企業におけるスコープ3(Scope 3)の排出量削減に貢献します。
- オゾン層破壊係数ゼロ(Zero ODP): 大気を保護し、台湾国内および国際的な最も厳格な環境規制に準拠しています。
- 化学的・物理的安定性: 酸性物質を含まず、蒸留サイクルを繰り返した後も中性を維持。装置や精密な半導体素子にダメージを与えることはありません。
卓越したパフォーマンス
高い信頼性が要求される半導体アプリケーションにおいて、NEO A2 はパッケージ製品の電気的特性に影響を与えないことを保証します。
- 残渣ゼロの検出精度: 蒸気洗浄プロセスとの組み合わせにより、イオン汚染を効果的に除去。長期間の動作におけるチップの電気化学的マイグレーションやリーク電流の発生を防止します。
- 優れた材料相性: 一般的な半導体用リードフレーム、セラミック基板、メタルリッド(金属蓋)、およびほとんどのエンジニアリングプラスチックを腐食させません。
- プロセスの均一性: 安定した共沸(アゼオトロピック)処方により、蒸発時間経過後も洗浄槽内の成分組成が変化せず、安定したライン品質を維持します。
コストの最適化
NEO A2 は、プロセス効率の向上を通じて、企業の環境保護とコスト削減の両立を支援します。
- 低沸点・低エネルギー消費: 沸点が約45°Cと低いため、ヒーターの立ち上げ時間を大幅に短縮し、洗浄設備の日常的な電気代を削減できます。
- 高い回収率: 優れた熱安定性により、気相洗浄装置内で溶剤を効率的に何度も回収・再利用できるため、薬剤の補充頻度と廃液処理コストを抑えられます。
- 排水処理コストの撤廃: 水系洗浄とは異なり、完全ドライプロセスであるため、排水のろ過、中和、および排出監視に関連する多額の設備投資や維持費が不要になります。
主な用途
- パワー半導体パッケージング: 高温はんだ付け後に残る厚いフラックス残渣を徹底的に洗浄します。
- 車載用電子機器: 極めて高い清浄度基準を満たし、長期的な信頼性を保証します。
- ハイエンド医療用電子機器: 植込み型デバイスや高精度診断装置向けの精密洗浄に対応します。
- 宇宙グレード: 過酷な環境下での動作に求められる、究極の表面清浄度を提供します。
健康・安全・環境(HSE)
PROMOSOLV NEO A2 本製品は「Greenway」認証製品です。

主な削減・改善要因:
人体への安全性と健康
- 引火点のない安全性: 不燃性を備え、引火点を持たないため、高負荷な作業環境や設備稼働下でも100%の作業安全を保証します。これにより、倉庫の保管基準を簡素化できるだけでなく、工場内での火災リスクを大幅に低減し、事業継続における絶対的な安定性を提供します。
- 低毒性・非腐食性のユーザーフレンドリー設計: 作業者の健康に配慮した設計により、毒性が極めて低く、有害な化学物質を含みません。同時に、さまざまな精密基板に対して優れた相性(材料適合性)を示し、部品を腐食させることなく汚染物質を効果的に除去できるため、一貫した製品品質を維持します。
環境保護とリソースの節約
- 極めて低い地球温暖化係数(GWP): GWP < 10 という業界をリードする環境基準を達成。厳格化する国際的な炭素排出規制への対応を容易にし、企業のグリーン・トランスフォーメーション(GX)の実現を強力に支援します。
- 最適化された沸点構成: 高沸点溶剤との安定した共沸(アゼオトロピック)状態を形成することで、システム全体の運転温度を効果的に低減します。
- 消費エネルギーの大幅な削減: 運転温度の低下により、電力消費量と予熱時間を削減。同時に、高温蒸発による溶剤の損失も抑制できるため、エネルギーコストと原材料コストの両面でウィンウィンの関係を構築できます。
- リソース配置の極大化(シンプル化): 本製品は後工程の水洗浄が不要なため、排水処理の負担を完全に撤廃できます。効率的なリサイクルメカニズムを通じて、化学薬品とエネルギーの浪費を川上から削減し、無駄のない(リーン)高効率かつ低負荷な洗浄ソリューションを創出します。
プロセス例:
最適なプロセスは、運転条件、設備、必要洗浄時間、汚染物質の性質など、さまざまな要因によって異なります。当社の専門チームが、お客様に最適なソリューションをご提案いたします。
共溶剤(コソルベント)分離プロセス
TOPKLEAN EL 80
Conc: 100%
Temp: 60/116
US: optional
Time: 5-10 min
Conc: 100%
Temp: 60/116
US: optional
Time: 5-10 min
CLEANING
PROMOSOLV NEO A2
Conc: 100%
Temp: 33/91
US: optional
Time: 2-5 min
Conc: 100%
Temp: 33/91
US: optional
Time: 2-5 min
RINSING
PROMOSOLV NEO A2
Conc: 100%
Temp: 30/111
US: optional
Time: 2-5 min
Conc: 100%
Temp: 30/111
US: optional
Time: 2-5 min
RINSING
DRYING ZONE
Conc: 100% NEO A2 vapor
Temp: 33/129
Time: 5-60 sec
Conc: 100% NEO A2 vapor
Temp: 33/129
Time: 5-60 sec
DRYING
シングル溶剤プロセス:フッ素系潤滑剤の除去
PROMOSOLV NEO A2
Conc: 100%
Temp: 33/91
US: optional
Time: 5-10 min
Conc: 100%
Temp: 33/91
US: optional
Time: 5-10 min
CLEANING
PROMOSOLV NEO A2
Conc: 100%
Temp: 30/86
US: optional
Time: 2-5 min
Conc: 100%
Temp: 30/86
US: optional
Time: 2-5 min
RINSING
DRYING ZONE
Conc: 100% NEO A2vapor
Temp: 33/91
Time: 5-60 sec
Conc: 100% NEO A2vapor
Temp: 33/91
Time: 5-60 sec
DRYING
